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    苹果专利曝光iMac全新设计:J形下弯

      [  中关村在线 原创  ]   作者:张金梁   |  责编:张金梁

    中关村在线消息:据外媒报道,苹果日前曝光的专利文件显示,iMac将会采用新的外观设计,类似于大写字母“J”。

    苹果专利曝光iMac全新设计:J形下弯

    苹果专利曝光iMac全新设计:J形下弯

    专利文件显示,iMac的显示屏通过弧形下弯的玻璃材质过渡到底部,底部平坦处不仅可以容纳键盘输入区域,还可以添加小显示屏。由于弯曲部分不足以支撑,苹果在背部设计了底座,且底座内可以容纳外围接口和电源等硬件。

    苹果在专利中提出,弯曲部分可以调整角度,甚至完全收起以便于运输等。另外,弯曲结构中还设计了楔形插槽,用于埋线等。

    不过专利归专利,苹果iMac什么时候才能用上这个技术现在还不能确定。【7377205】

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    news.zol.com.cn true /737/7377205.html report 490 中关村在线消息:据外媒报道,苹果日前曝光的专利文件显示,iMac将会采用新的外观设计,类似于大写字母“J”。专利文件显示,iMac的显示屏通过弧形下弯的玻璃材质过渡到底部,底部平坦处不仅可以容纳键盘输入区域,还可以添加小显示屏。由于弯曲部分不足以支撑,苹果在背...
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